Исследователи объединили два перспективных класса материалов: тонкую атомарную пленку топологического изолятора (селенида висмута) и мономолекулярный слой фуллеренов C₆₀. Топологические изоляторы выделяются тем, что не проводят ток в объеме, но обладают высокой проводимостью на поверхности за счет особых квантовых состояний. Фуллерены образуют на этой поверхности плотный молекулярный слой, сохраняя собственные электронные характеристики.
Ключевой результат работы — возможность гибко менять электронную структуру полученной системы. Это достигается интеркаляцией — внедрением атомов калия в слой фуллеренов. Такая настройка свойств критически важна для практического применения материала.
Разработанный материал может найти применение в высокопроизводительной наноэлектронике, сверхчувствительных фотодетекторах, а также использоваться для фундаментальных исследований сильно коррелированных электронных систем.
Работа выполнена при поддержке Российского научного фонда.
Напомним, что Институт наукоемких технологий и передовых материалов ДВФУ занимает одну из лидерских позиций в физическом и химическом образовании среди вузов России. Институт готовит специалистов в области физики, химии, электроники, наноэлектроники и материаловедения. Образовательные программы ИТПМ сочетают фундаментальную подготовку с практико-ориентированным подходом.
Такие исследования возможны благодаря постоянно развивающейся научной инфраструктуре кампуса ДВФУ постоянно совершенствуется. В 2024 году по отдельному поручению президента России Владимира Путина Дальневосточный федеральный университет вошел в программу строительства кампусов мирового уровня в рамках национального проекта «Молодежь и дети». Вторая очередь кампуса ДВФУ будет включать новые общежития на 4000 человек. К 2030 году в стране появятся 25 новых кампусов университетов. Работу по данному направлению ведет Правительство Российской Федерации и Минобрнауки России.
