Первый научный семинар Национального центра физики и математики (НЦФМ) пройдет 10 марта в кампусе МГУ Саров – образовательного ядра НЦФМ – в рамках Десятилетия науки и технологий. Ученые обсудят развитие технологии проекционной литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV), а также перспективы ее реализации в России.
На семинаре будет представлена дорожная карта развития высокопроизводительной проекционной литографии в России до 2030 года, разработанная Институтом физики микроструктур РАН.
Ученые смогут обсудить критические технологии, обладание которыми необходимо для создания современной литографической установки с рабочей длиной волны, лежащей в EUV-диапазоне, на примере литографа TWINSCAN NXE: 3600D от нидерландской компании ASML. В ходе семинара также будут также рассмотрены имеющиеся в России экспериментальные заделы в области технологий EUV-литографии.
Трансляция семинара будет доступна по ссылке в 16:45 мск.
